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EUV光刻胶

EUV光刻胶

日本对韩国发起的贸易制裁已经过去一个月了,分别是7月4日、8月7日推出了两波禁令,严控重要材料对韩国出口,其中第一波制裁中的光刻胶、氟化聚酰亚胺和氟化氢最为关键,对半导体、面板生产极为重要。...

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  • 传三星从比利时获得EUV光刻胶 半导体制造加速摆脱日本

    日本对韩国发起的贸易制裁已经过去一个月了,分别是7月4日、8月7日推出了两波禁令,严控重要材料对韩国出口,其中第一波制裁中的光刻胶、氟化聚酰亚胺和氟化氢最为关键,对半导体、面板生产极为重要。

  • 价值10亿一台 消息称Intel已有12台EUV光刻机:14代酷睿首发4nm EUV工艺

    EUV光刻机是目前半导体生产中最先进也是最复杂的装备,售价约合10亿一台,只有荷兰ASML公司能够生产,虽然客户也只有Intel、台积电、三星这三家,但现在还是供不应求,去年生产了55台,预计2025年产能提升到每年90台...虽然10-12台EUV光刻机听着不多,但是实际的产能不小,EUV光刻机每小时处理的晶圆数在160-220个左右,平均200个来算,一年中24小时不停生产就有170万晶圆,足够生产数千万芯片,10台以上的总量足够Intel生产未来的处理器了......

  • 一台几十亿!台积电、Intel、三星疯抢ASML EUV光刻机

    台积电今日(6月17日)在北美技术论坛上公布了新的制程路线图,定于2025年量产2nm工艺,其采用Nanosheet(纳米片电晶体)的微观结构,取代FinFET...台积电还雄心勃勃地提出,要在2025年前将成熟和专业化制程的产能提高50%,包括兴建更多的晶圆厂...台积电表示,计划在2024年引入ASML的新一代EUV极紫外光刻机...这款光刻机价值高达4亿美元(约合26亿元人民币),双层巴士大、重超200吨......

  • 台积电:将于2024年引进下一代ASML High-NA EUV光刻机

    据路透社报道,台积电研发资深副总经理Y.J. Mii在台积电技术论坛上表示,公司将在 2024 年引进ASML高数值孔径极紫外光(high-NA EUV)光刻机...台积电研发高级副总裁Y.J. Mii在台积电硅谷技术研讨会上表示:「展望未来,台积电将在 2024 年引入 High-NA EUV光刻机,以开发客户所需的相关基础设施和图案化解决方案,并推动创新......

  • 三星掌门人拜访荷兰首相,商请协调EUV光刻机供货问题

    中关村在线消息:有媒体报道三星掌门人李在镕与荷兰首相马克・吕特进行了会晤,除了讨论半导体行业、供应链相关问题之外,还提到希望首相能帮助协调ASML提供EUV光刻机供货问题...ASML的CEO Peter Wennink表示,ASML交付的每一台光刻机都是按照客户需求个性化定制、手工打造的,直到出货为止需要大量时间的调校、打磨,至少在未来几年之内ASML都无法顺利交付所有订单,除非将产能提升50%以上...

  • 三星李在镕本周有望到访阿斯麦:抢购EUV光刻机

    据外媒消息,三星电子副会长李在镕有望在本周到访荷兰光刻机制造商阿斯麦(ASML),媒体认为他此行是为了抢购EUV光刻机。据悉,李在镕的荷兰商务旅行将从6月7日开始,一直持续到6月18日。三星此前宣布将在5年内向半导体和生物制药领域投资3600亿美元(约合23977亿元人民币),将尽早进口EUV光刻机,使三星在制造最先进的微芯片方面占据优势。据媒体报道,三星对其芯片代工业务的高层进行了人员调整,显示业务部门37岁以下的员工,可以申请调整到芯片封装业务部门,此次部门调整也是为了加强自身芯片制造实力。此外,三星李在镕与Intel CEO

  • ASML分享High-NA EUV光刻机新进展 目标2024-2025年进厂

    当前市面上最先进的芯片,已经用上了 5 / 4 nm 的制造工艺...新款高 NA 扫描仪仍在开发之中,预计其结构将异常复杂、庞大、且昂贵 —— 每台成本将超过 4 亿美元...不过英特尔又将 18A 的上手时间推迟到了 2024 下半年,并表示可借助 ASML 的 Twinscan NXE:3600D 或 NXE:3800E 系统实现 18A 制造(大概率是利用多重曝光来实现)......

  • 英特尔爱尔兰Fab 34芯片制造工厂迎来首台EUV光刻机

    上周,芯片巨头英特尔在位于爱尔兰 Leixlip 的 Fab 34 工厂,完成了首台极紫外(EUV)光刻机的安装...目前尚不清楚英特尔为何要让这台机器绕地球这么一大圈,一种猜测是英特尔在俄勒冈州进行了早期检测、以确保光刻机符合该公司的严格要求...此外预计这台机器是安装在爱尔兰 Fab 34 工厂中的第一台 EUV 光刻机,并作为英特尔 7nm(Intel 4)工艺技术的关键推动者...

  • Intel宣布先进CPU工艺路线图:EUV光刻今年量产 8年集成1万亿晶体管

    在过去的2021年,Intel最重要的一步当然是量产了Intel 7(之前的10nm SF工艺)工艺,以此为基础推出了12代酷睿Alder Lake,今年的13代酷睿Raptor Lake也会继续使用Intel 7工艺,提高产能、优化性能是重点,13代酷睿这次又增加了8个效能核,总计24核32线程......

  • 阿斯麦柏林工厂火灾波及EUV光刻机一部件生产区域 尚未恢复

    阿斯麦在官网上表示,上周一的火灾,发生在柏林工厂的一栋建筑中,火灾中的烟雾,部分影响到了相邻的建筑,受影响建筑的部分生产已能恢复,其他未受影响的建筑,已全面运营...火灾影响的损坏评估仍在进行中,但阿斯麦方面表示,从目前的情况来看,他们计量和检测产品的产出计划将不会受到影响,因为没有相关的部件在柏林工厂生产...虽然火灾未影响到计量和检测产品部件的生产,但阿斯麦位于柏林的工厂,生产DUV和EUV光刻机的部分部件,这两类光刻机部分部件的生产,在火灾中都受到了影响...柏林工厂受火灾影响仍未恢复的,是EUV光刻机一个零部件的生产区域,恢复计划仍在进行中,他们已决定采取相关的措施,将对EUV光刻机客户、产出计划及服务的潜在影响降到最低...

  • 工厂突发火灾 ASML确认EUV光刻机生产受影响、DUV没事

    全球半导体产能紧张持续一年了,芯片扩产需要包括光刻机在内的重要设备,结果前几天全球最大光刻机巨头ASML在德国的工厂遭遇火灾,官方表示还要几天才能评估损失,但是现在可以确定主要是EUV光刻机生产会受影响。ASML旗下的这家公司位于德国柏林,前身是Berliner Glas,ASML公司2020年才收购了这家公司,它们的营收额并不高,但生产的是光刻机中的一种重要部件,可以用于光刻机及晶圆之间的接口,需要有纳米级别的操作精度,可以说

  • Intel确认EUV光刻工艺的处理器2023年出货:酷睿、至强都有

    与台积电、三星相比,Intel这几年在半导体工艺上放慢了脚步,这里面原因有很多,不过一个重要因素就是Intel一直认为EUV光刻工艺不成熟,他们追求的是在没有EUV光刻机的情况下开发7nm甚至5nm工艺,结果耽误了时间。面对对手在EUV光刻上的领先,Intel现在也加快脚步了,原先叫做7nm的节点现在改名为Intel 4,这是Intel第一个使用EUV光刻机的工艺。日前在接受媒体采访时,Intel逻辑工艺开发总经理Sanjay Natarajan确认,Intel已经确认

  • ASML介绍新一代高NA EUV光刻机:芯片缩小1.7倍、密度增加2.9倍

    按照业内预判,2025年前后半导体在微缩层面将进入埃米尺度(,angstrom,1埃 = 0.1纳米),其中2025对应A14(14=1.4纳米)。除了新晶体管结构、2D材料,还有很关键的一环就是High NA(高数值孔径)EUV光刻机。根据ASML(阿斯麦)透露的最新信息,第一台原型试做机2023年开放,预计由imec(比利时微电子研究中心)装机,2025年后量产,第一台预计交付Intel。Gartner分析师Alan Priestley称,0.55NA下一代EUV光刻机单价将翻番到3亿美

  • 3亿美元单价翻倍!ASML下一代EUV光刻机提前量产:Intel抢首发

    在上月的ITF大会上,半导体行业大脑imec(比利时微电子研究中心)公布的蓝图显示,2025年后晶体管进入埃米尺度(,angstrom,1埃 = 0.1纳米),其中2025对应A14(14=1.4纳米),2027年为A10(10=1nm)、2029年为A7(7=0.7纳米)。当时imec就表示,除了新晶体管结构、2D材料,还有很关键的一环就是High NA(高数值孔径)EUV光刻机。其透露,0.55NA的下代EUV光刻机一号试做机(EXE:5000)会在2023年由ASML提供给imec,2026年量产。?

  • 每小时曝光160片晶圆!ASML新款EUV光刻机创记录:卖疯了

    今日晚间,ASML发布2021年第三季度财报,EUV光刻机的出货量和营收都刷新纪录。财报显示,ASML 2021年第三季度净销售额为52亿欧元,净利润为17亿欧元,毛利率达到51.7%,新增订单金额62亿欧元。ASML 预计2021年第四季度营收约为49亿~52亿欧元,毛利率约51%~52%。产品和业务摘要 :EUV(极紫外光)光刻业务:本季 EUV系统的出货量和营收都刷新纪录。最新款的NXE:3600D EUV 光刻系统在客户的生产线上创下了每小时曝光160片晶圆的记录。D

  • ASML三季度业绩激增:EUV光刻机出货量刷新纪录

    10月20日晚间消息,ASML(荷兰阿斯麦)发布了2021年三季度财报。数据层面,净销售额52亿欧元(约合386亿元),毛利率51.7%,净利润17亿欧元(约合126亿元)。官方预计四季度销售额49亿到52亿欧元,毛利率在51%到52%。环比之下,净销售额增加67.6%、净利润增加30.4%。ASML称,三季度,EUV光刻机系统的订单量达到了29亿欧元,且当季的出货量和收入创下历史新高。目前,ASML主力EUV光刻机是TWINSCAN NXE:3600D,其在客户那里也达到了?

  • 9.38亿元!ASML第一台全新EUV极紫外光刻机交付

    作为全球第一光刻机供应商,荷兰ASML(阿斯麦)今天公布了2021年第二季度财报。当季,ASML净销售额40亿欧元,毛利率50.9%,净收入10亿欧元,净预订额83亿欧元,其中EUV极紫外光刻机就有49亿欧元,而总的积压订单金额已达175亿欧元。ASML在财报中还披露,第一台全新TWINSCAN NXE:3600D EUV光刻机系统已经交付给客户,相比之前的NXE:3400C生产力提高了15-20%,覆盖率(套刻精度)提高了约30%。不过,ASML未透露接收客户是哪一家。AS

  • 包揽全球一半EUV光刻机 台积电A15、Zen4产能大增

    作为全球最大的晶圆代工厂,台积电在先进工艺及产能两方面都是NO.1优势,所以不愁订单,仅仅是EUV光刻机就拿下全球50%的份额,随着苹果A15、M1X、M2以及AMD Zen4芯片陆续量产,EUV产能也要爆发了。台积电从7nm开始使用EUV工艺,不过7nm EUV工艺产能较低,只有华为麒麟990大规模使用了,苹果A13还是7nm增强版工艺。从5nm工艺开始,台积电先进工艺全线使用EUV工艺,而且利用程度加深,明年还有3nm工艺,会进一步利用EUV光刻。由于EUV

  • ASML拒绝新一代EUV光刻机跳票:找到日本巨头技术驰援

    日前传出ASML新一代光刻机EXE:5000跳票到2025年之后的消息,但似乎荷兰人已经找到帮手帮自己提速。日本最大半导体成膜、蚀刻设备公司东京电子(东京威力科创,Tokyo Electron)宣布,将在镀膜/显影技术上与ASML合作,以联合推进其下一代NA EUV光刻机的研制,确保2023年投入运行。据悉,参与该EUV光刻机研发的还有IMEC,即位于比利时的欧洲微电子中心。东京电子表示,自旋金属抗蚀剂已显示出高分辨率和高蚀刻电阻,并有望使图案更加

  • AMD的Zen3处理器小惊喜曝光:终于上EUV光刻工艺了?

    AMD的锐龙5000系列处理器下月初就要上市了,全新的Zen3架构IPC性能大涨,不过工艺上面依然是7nm级别的,官方称之为更成熟的7nm工艺。最早的传闻中,AMD的Zen3工艺说是要上7nm EUV工艺的,这是

    AMD
  • 台积电越来越依赖ASML的EUV光刻机:3nm需要20层

    台积电是第一家将EUV(极紫外)光刻工艺商用到晶圆代工的企业,目前投产的工艺包括N7+、N6和N5三代。其中N7+即第二代7nm,EUV总计4层。即便如此,这也相较于多重曝光也节省了时间,提高了芯片

  • 为争取EUV光刻机供货:三星掌门人李在镕亲赴ASML荷兰总部游说

    据韩媒报道,三星电子副董事长李在镕在本周三(10月14日)亲自飞赴ASML(阿斯麦)荷兰总部会晤。陪同李在镕的是三星芯片业务负责人Kim Ki-nam,ASML方面CEO Peter Wennink和CTO Martin Van de

  • 台积电明年底前将累计采购55台EUV光刻机:花费超440亿元

    芯片制程已经推进到了7nm以下,这其中最关键的核心设备就要数EUV光刻机了,目前全世界只有荷兰ASML(阿斯麦)可以制造。来自Digitimes的报道称,台积电打算在2021年底前购置55台EUV光刻机,以

  • 内存又要跌价了?SK海力士计划在M16工厂引入EUV光刻机

    在进入20nm节点之后,内存工业也面临着CPU工艺一样的制造难题,微缩越来越困难,制造工艺复杂,导致内存成本居高不下。如今7nm以下的处理器用上了EUV光刻机,内存很快也要跟进了,SK海力士计划在

  • Intel/台积电/ASML齐捧EUV光刻:捍卫摩尔定律

    日前,中国国际半导体技术大会(CSTIC)在上海开幕,为期19天,本次会议重点是探讨先进制造和封装。其中,光刻机一哥ASML(阿斯麦)的研发副总裁Anthony Yen表示,EUV光刻工具是目前唯一能够处

  • EUV光刻机断货 台积电5nm工艺抢三星头彩:A14/麒麟1020首发

    台积电上周发布了3月及Q1季度财报,营收同比大涨了42%,淡季不淡。不过接下来的日子半导体行业可能不太好过了,ASML的EUV光刻机已经断货,要延期交付,好在台积电今年已经在5nm工艺上抢先三星了。

  • 2021年ASML将推下一代EUV光刻机 面向2nm、1nm工艺

    作为全球唯一能生产EUV光刻机的公司,荷兰ASML公司去年出售了26台EUV光刻机,主要用于台积电、三星的7nm及今年开始量产的5nm工艺,预计今年出货35台EUV光刻机。

  • 台积电7/6/5nm工艺供不应求,投入巨资购买EUV光刻机

    TSMC台积电是全球全球晶圆代工厂一哥,已经连续多年占据圆晶代工市场份额第一位置。2020年台积电在先进制程上的优势还会进一步加强,除了7nm供不应求之外,6nm及5nm工艺也会量产,以满足苹果、华为、高通等大客户需求。

  • ASML研发第二代EUV光刻机:性能提升70% 2025年问世

    半导体制造过程中最复杂也是最难的步骤就是光刻,成本能占到整个生产过程的1/3,光刻机也因此成为最重要的半导体制造装备,没有之一。目前最先进的光刻机是荷兰ASML公司生产的EUV光刻机,每台售价超过1亿美元,而且供不应求。

  • 台积电今年要买18台EUV光刻机:第二代7nm最快3月量产

    目前用于苹果A12/A12X、华为麒麟980、AMD Radeon VII的7nm工艺均由台积电代工,但只是第一代DUV(深紫外)制程。