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快科技11月20日消息,据报道,西安电子科技大学杭州研究院石理平教授团队与企业合作,提出了一种基于飞秒激光诱导的物理不可克隆(PUF)纳米纹理,并将其应用于高安全等级身份证卡防伪。当前,伪造身份证、护照等高价值身份识别证件已成为个人信息安全乃至国家安全领域的重大威胁。为应对这一严峻挑战,传统防伪技术虽已构建起复杂的制证工艺体系,旨在通过提高仿造的技术难度和成本来构筑防线。然而,这一传统方法存在一个根本性缺陷:证件本身缺乏独一无二的物理防伪标识,未能实现证卡载体”与识别个人”之间的唯一性绑定防伪元素。一?
据国外媒体报道称,台积电将于今年年底从荷兰供应商ASML接收首批全球最先进的芯片制造机器,仅比美国竞争对手英特尔晚几个月。高数值孔径极紫外光刻机是世界上最昂贵的芯片制造设备,每台的价格约为3.5亿美元。也是引起了行业专家的吐槽,有人甚至放话,如果没有先进光刻机,你们恐怕什么也不是。
快科技10月18日消息,据媒体报道,三星电子已决定推迟接收来自荷兰光刻机巨头阿斯麦(ASML)的芯片制造设备。这批设备原本计划用于三星电子在得克萨斯州泰勒市斥资170亿美元新建的工厂。然而,目前三星电子尚未为该工厂赢得任何关键客户,这一现状无疑为项目的推进增添了不确定性。不仅如此,三星电子还推迟了向其他供应商下的订单。这一举动不仅迫使这些供应商开
美国时间周二,荷兰光刻机巨头阿斯麦公布了最新财报,结果却让市场大跌眼镜。公司第三季度的业绩被指“爆雷”,股价瞬间暴跌16.26%,创下近26年来的最大单日跌幅。公司也在财报中下调了明年的销售目标,这无疑又为股市增添了一层阴霾。
ASML公布了2024年第三季度财报,并特别提到了在中国市场的销售情况、前景。ASML当季净销售额74.67亿欧元,环比增长19.6%;毛利率50.8%,环比下跌1.7个百分点;净利润20.77亿欧元,环比增长31.6%。主要原因是低数值孔径EUV光刻机的需求量减少,预计2025年的出货量将少于50台,处于预测区间的中间值。
近日,工信部发布《首台重大技术装备推广应用指导目录》。工信微报介绍称,重大技术装备是国之重器,事关综合国力和国家安全。28nm虽然不是特别先进技术,但意义依然重大,因为这是芯片中低端和中高端的分界线,目前除了最先进的CPU、GPU、AI芯片外,其余的工业级芯片大多都是28nm以上技术。
在近日的财报电话会议上,IntelCEO宣布已成功接收全球第二台价值3.83亿美元的HighNAEUV。HighNAEUV光刻机是目前世界上最先进的芯片制造设备之一,其分辨率达到8纳米,能够显著提升芯片的晶体管密度和性能,是实现2nm以下先进制程大规模量产的必备武器。Intel计划在2027年前将HighNAEUV技术用于商业生产,并在2030年前实现代工业务的收支平衡。
台积电正全力以赴,加速安装对2nm工艺量产至关重要的EUV光刻机。为了满足这一高端生产需求,台积电计划在今明两年接收超过60台EUV光刻机,预计投资总额将超过123亿美元。业界普遍期待台积电能在今年内接收到最新的High-NAEUV光刻机,这将为其在高端芯片制造领域的竞争力再添助力。
荷兰光刻机巨头阿斯麦ASML迎来了新CEO,法国人克里斯托夫富凯。法国媒体在报道这一消息时直言,富凯上任后将面临不少棘手的待办事项,但如何处理公司在华业务则是首要工作”。”同时他还认为,从贸易的角度来看,不同地区之间脱钩是非常困难的,特别是这个行业需要高度协作。
4月3日7时58分,中国台湾花莲县海域发生7.3级地震,后续记录到上百起余震。4月3日晚,台积电对中国台湾发生的地震所造成影响做出最新评估。有网友表示:越先进的工艺,受影响越大”估计损失可能要好几亿美元了,机台上的晶圆都废了”。