近日，工信部发布了《重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》，重点推广具有重大技术突破的国产装备。
重大技术装备是指在关键领域取得核心技术突破，具有自主知识产权且尚未广泛应用的装备产品，包括整机设备、关键系统和部件等。
在集成电路设备目录中，出现了氟化氩光刻机和氟化氪光刻机，均属于DUV光刻机。
氟化氩光刻机分辨率65nm，套刻精度8nm；氟化氪光刻机分辨率110nm，套刻精度25nm。套刻精度约为量产工艺精度的三分之一，这意味着该光刻机可量产28nm工艺的芯片，与20年前ASML的1460K水平相当。
尽管28nm技术并非最先进，但对我国芯片产业意义重大，因为它标志着芯片中低端和中高端的分界线。目前，除最先进的CPU、GPU和AI芯片外，大部分工业级芯片仍采用28nm以上技术。
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国家知识产权局公布了一项新的华为专利，专利名为“反射镜、光刻装置及其控制方法”，编号是CN115343915A，此项专利与EUV光刻机有关，也引起了众多关注。此前华为自研芯片获得成功，不过高端芯片的量产在美国对华技术封锁的压力下停滞不前，麒麟9000也成为经典不再量产，华为入局光刻机可以说是一个好消息，猜测后续华为会推进处理器的研发和设计。麒麟9000芯片是华为于2020年10月22日20:00发布的基于5nm工艺制程的手机Soc，基于5nm工艺制程打造，集成多达153亿个晶体管，包括一个3.13GHzA77大核心、三个2.54GHzA77中核心、四个2.04GHzA55小核心。
近日，有自媒体报道称华为正在公测的云鲲鹏手机可以绕过光刻机的技术壁垒。对此，华为方面回应称，华为云鲲鹏手机只是一款云上服务器，面向企业客户提供部分移动应用虚拟运行环境。
在3月24日，格科半导体再次迎来了建厂重要标志性时刻，整套生产线中的最关键设备ASML先进ArF光刻机成功搬入...依托自有工厂即格科半导体的先进制程，格科微将进一步加快先进CIS工艺和高阶专利像素的研发速度，并在自有工厂实现批量生产验证，从而极大缩短高端产品从研发到大量供应市场的周期...
昨天有消息称，ASML旗下所有的DUV光刻机，出口都要被经过认可才可以。对于这样的说法，也是引起了热议，不过ASML给出了回应。光刻机大厂ASML高管对外表示，半导体业只有通力合作，建立完全自主的产业链，即使并非不可能也会极其困难。
ASML的EUV机器是先进芯片制造的关键，每台成本高达1.6亿美元（约10.73亿元人民币），产量有限给三星、台积电和英特尔等芯片制造商造成了瓶颈，这些公司计划在未来几年投资超过1000亿美元（约6713亿人民币）建设半导体工厂...元大证券分析师Lee Jae-yun在此前的评论中表示，三星2022年预计将从阿斯麦（ASML）获得18台EUV机器，高于去年估计的15台和2020年的8台......
本周，光刻机一哥ASML（荷兰阿斯麦）在在线投资者活动中上调了业绩预期。公司预计2025年的营收将达到240亿到300亿欧元，2025年的毛利率在54~56%，今后十年（2020~2030）年化增长率11%。可做参考的是，2020年ASML营收为140亿欧元，毛利率48.6%，共卖出256台光刻机系统产品。ASML方面表示，半导体行业需求的高速增长使得自己的产品颇受市场欢迎。据悉，ASML 2017年推出EUV（极紫外光刻机），目前是该领域唯一的玩家，当前EUV光刻机均
日前传出ASML新一代光刻机EXE:5000跳票到2025年之后的消息，但似乎荷兰人已经找到帮手帮自己提速。日本最大半导体成膜、蚀刻设备公司东京电子（东京威力科创，Tokyo Electron）宣布，将在镀膜/显影技术上与ASML合作，以联合推进其下一代NA EUV光刻机的研制，确保2023年投入运行。据悉，参与该EUV光刻机研发的还有IMEC，即位于比利时的欧洲微电子中心。东京电子表示，自旋金属抗蚀剂已显示出高分辨率和高蚀刻电阻，并有望使图案更加
趋境科技宣布金融与战略专家武文洁博士加盟并出任总裁，完善公司顶尖人才矩阵。武博士拥有丰富投资并购及全球化运营经验，将统筹公司战略执行与财务管理，加速高效能AI Token生产技术规模化落地，推动公司全球化布局。趋境科技已汇聚顶尖学术科研与商业力量，致力于通过底层技术突破和全场景产品应用，构建从技术到生态的完整创新闭环，以硬核科技驱动产业变革，共建高效普惠的AI算力新生态。
ASML公布了2024年第三季度财报，并特别提到了在中国市场的销售情况、前景。ASML当季净销售额74.67亿欧元，环比增长19.6％；毛利率50.8％，环比下跌1.7个百分点；净利润20.77亿欧元，环比增长31.6％。主要原因是低数值孔径EUV光刻机的需求量减少，预计2025年的出货量将少于50台，处于预测区间的中间值。
