快科技11月6日消息，近日佳能CEO御手洗富士夫在接受受访时表示，该公司基于NIL的新型芯片制造设备售价将比ASML的EUV少一位数。
目前，极紫外光刻机（EUV）的唯一供应商就是ASML，EUV对于大规模生产速度快、能耗低的芯片至关重要，但每台机器的售价高达数亿美元，只有少数公司才有能力购买。
为此，从2017年开始，佳能就与铠侠，以及半导体零组件制造商大日本印刷株式会社（DNP）合作，研发基于纳米压印(NIL)的量产技术，在不使用EUV的情况下将制程技术推进到5nm。
佳能表示，这套生产设备的工作原理和ASML光刻机不同，并不利用光学图像投影的原理将集成电路的微观结构转移到硅晶圆上，而是更类似于印刷技术，直接通过压印形成图案。
铠侠曾经表示，由于NIL技术的微影制程较为单纯，因此相比于EUV可以大幅减少耗能，并降低设备成本。
御手洗富士夫还表示:我不认为纳米压印技术会取代EUV，但我相信这将创造新的机会和需求，而且我们已经收到了很多客户的咨询。”
同时其还表示，最终的定价目前还没有敲定，但希望这是一个完全的惊喜。
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日前，中国国际半导体技术大会（CSTIC）在上海开幕，为期19天，本次会议重点是探讨先进制造和封装。其中，光刻机一哥ASML（阿斯麦）的研发副总裁Anthony Yen表示，EUV光刻工具是目前唯一能够处
日前传出ASML新一代光刻机EXE:5000跳票到2025年之后的消息，但似乎荷兰人已经找到帮手帮自己提速。日本最大半导体成膜、蚀刻设备公司东京电子（东京威力科创，Tokyo Electron）宣布，将在镀膜/显影技术上与ASML合作，以联合推进其下一代NA EUV光刻机的研制，确保2023年投入运行。据悉，参与该EUV光刻机研发的还有IMEC，即位于比利时的欧洲微电子中心。东京电子表示，自旋金属抗蚀剂已显示出高分辨率和高蚀刻电阻，并有望使图案更加
台积电是第一家将EUV（极紫外）光刻工艺商用到晶圆代工的企业，目前投产的工艺包括N7+、N6和N5三代。其中N7+即第二代7nm，EUV总计4层。即便如此，这也相较于多重曝光也节省了时间，提高了芯片
全球半导体产能紧张持续一年了，芯片扩产需要包括光刻机在内的重要设备，结果前几天全球最大光刻机巨头ASML在德国的工厂遭遇火灾，官方表示还要几天才能评估损失，但是现在可以确定主要是EUV光刻机生产会受影响。ASML旗下的这家公司位于德国柏林，前身是Berliner Glas，ASML公司2020年才收购了这家公司，它们的营收额并不高，但生产的是光刻机中的一种重要部件，可以用于光刻机及晶圆之间的接口，需要有纳米级别的操作精度，可以说
在半导体工艺进入7nm节点之后，EUV光刻机是少不了的关键设备，目前只有ASML能制造，单台售价10亿人民币，今年底还会迎来下一代EUV光刻机，价格也会大涨。光刻机的分辨率越高，越有利于制造更小的晶体管分辨率也跟光刻机物镜的NA数值孔径有直接关系，目前的EUV光刻机是NA=0.33技术的，下代EUV光刻机则是提升到NA=0.55。这还不排除未来正式商用的时候价格进一步上涨，毕竟还要好几年才能上市。
据韩媒报道，三星电子副董事长李在镕在本周三（10月14日）亲自飞赴ASML（阿斯麦）荷兰总部会晤。陪同李在镕的是三星芯片业务负责人Kim Ki-nam，ASML方面CEO Peter Wennink和CTO Martin Van de
今日晚间，ASML发布2021年第三季度财报，EUV光刻机的出货量和营收都刷新纪录。财报显示，ASML 2021年第三季度净销售额为52亿欧元，净利润为17亿欧元，毛利率达到51.7%，新增订单金额62亿欧元。ASML 预计2021年第四季度营收约为49亿~52亿欧元，毛利率约51%~52%。产品和业务摘要 ：EUV(极紫外光)光刻业务：本季 EUV系统的出货量和营收都刷新纪录。最新款的NXE:3600D EUV 光刻系统在客户的生产线上创下了每小时曝光160片晶圆的记录。D
台积电今日（6月17日）在北美技术论坛上公布了新的制程路线图，定于2025年量产2nm工艺，其采用Nanosheet（纳米片电晶体）的微观结构，取代FinFET...台积电还雄心勃勃地提出，要在2025年前将成熟和专业化制程的产能提高50%，包括兴建更多的晶圆厂...台积电表示，计划在2024年引入ASML的新一代EUV极紫外光刻机...这款光刻机价值高达4亿美元（约合26亿元人民币），双层巴士大、重超200吨......
10月20日晚间消息，ASML（荷兰阿斯麦）发布了2021年三季度财报。数据层面，净销售额52亿欧元（约合386亿元），毛利率51.7%，净利润17亿欧元（约合126亿元）。官方预计四季度销售额49亿到52亿欧元，毛利率在51%到52%。环比之下，净销售额增加67.6%、净利润增加30.4%。ASML称，三季度，EUV光刻机系统的订单量达到了29亿欧元，且当季的出货量和收入创下历史新高。目前，ASML主力EUV光刻机是TWINSCAN NXE:3600D，其在客户那里也达到了?
按照业内预判，2025年前后半导体在微缩层面将进入埃米尺度（，angstrom，1埃 = 0.1纳米），其中2025对应A14（14=1.4纳米）。除了新晶体管结构、2D材料，还有很关键的一环就是High NA（高数值孔径）EUV光刻机。根据ASML（阿斯麦）透露的最新信息，第一台原型试做机2023年开放，预计由imec（比利时微电子研究中心）装机，2025年后量产，第一台预计交付Intel。Gartner分析师Alan Priestley称，0.55NA下一代EUV光刻机单价将翻番到3亿美
