站长之家(ChinaZ.com) 3月23日消息:在日前举行的英伟达 GPU 技术大会（NVIDIA GTC）上，英伟达公布了其在计算光刻技术方面的突破。新的 Nvidia cuLitho 软件库将加速计算引入了计算光刻领域，使半导体公司能够在这一领域取得突破。
英伟达 CEO 黄仁勋透露，经与台积电、ASML 及新思科技四方的合作，经历四年开发，英伟达完成全新的 AI 加速技术 Culitho，这是一个用于运算式微影函式库，将可缩短先进制程芯片的光罩时程、拉升良率并大幅减低晶圆制作的能耗。黄仁勋并预告台积电将把这套 AI 系统，在今年6月导入2纳米试产，用于提升2纳米制程良率，并缩短量产时程。
「芯片行业是世界上几乎所有其他行业的基础，」英伟达创始人兼首席执行官黄仁勋说。「由于光刻技术处于物理学的极限，英伟达推出的 cuLitho 以及与我们的合作伙伴台积电、ASML 和 Synopsys 的合作，使晶圆厂能够提高产量，减少碳足迹，并为2纳米及以后的发展奠定了基础。」
cuLitho 在 GPU 上运行，其性能比目前的光刻技术（在硅晶圆上创建图案的过程）提高了40倍，可以加速目前每年消耗数百亿个 CPU 小时的大规模计算工作负载。它使500个 NVIDIA DGX H100系统实现了40000个 CPU 系统的工作，并行运行计算光刻工艺的所有部分，有助于减少电力需求和潜在的环境影响。
在短期内，使用 cuLitho 的工厂可以帮助每天生产3-5倍的光罩 —— 芯片设计的模板 —— 使用比当前配置少9倍的电力。一个需要两周时间的光罩现在可以在一夜之间完成。
从长远来看，cuLitho 将实现更好的设计规则、更高的密度、更高的产量和 AI 驱动的光刻技术。
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