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在日前举行的英伟达+GPU+技术大会上,英伟达公布了其在计算光刻技术方面的突破。新的+Nvidia+cuLitho+软件库将加速计算引入了计算光刻领域,使半导体公司能够在这一领域取得突破。从长远来看,cuLitho+将实现更好的设计规则、更高的密度、更高的产量和+AI+驱动的光刻技术。
中国科学院官网刊文称,上海光机所在计算光刻技术研究方面取得重要进展。近日,中科院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室提出一种基于虚拟边(Virtual Edge)与双采样率像素化掩模图形(Mask pixelation with two-phase sampling)的快速光学邻近效应修正技术(Optical proximity correction, OPC)。仿真结果表明,该技术具有较高的修正效率。光刻是极大规模集成电路制造的关键技术之一,光刻分辨率决定集成电路的特