昨晚有报道称,国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备项目”已经通过验收,未来国产光刻机也将占领一席之地。该光刻机采用紫外光源,实现了22nm分辨率的光刻,可以生产我们熟悉的22nm级别芯片。另外,使用双重曝光技术后,该光刻机在未来甚至可以生产领先的10nm级别芯片。 据
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