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华人胡正明获美国技术奖:发明FinFET

2015-12-23 17:53 · 稿源: 驱动之家

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据白宫官网报道,美国东部时间22日,2015年美国最高科技奖获奖名单公布,包括9名国家科学奖获得者(NationalMedalofScience)和8名国家技术和创新奖(NationalMedalofTechnologyandInnovation)获得者...

其中美籍华人科学家胡正明荣获年度国家技术和创新奖...

胡正明教授是鳍式场效晶体管(FinFET)的发明者,如今三星、台积电能做到14nm/16nm都依赖这项技术...

在华为海思麒麟950的发布会上,胡正明教授曾现身VCR(视频点击),据他介绍,FinFET的两个突破,一是把晶体做薄后解决了漏电问题,二是向上发展,晶片内构从水平变成垂直...

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