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近日,工信部发布《首台重大技术装备推广应用指导目录》。工信微报介绍称,重大技术装备是国之重器,事关综合国力和国家安全。28nm虽然不是特别先进技术,但意义依然重大,因为这是芯片中低端和中高端的分界线,目前除了最先进的CPU、GPU、AI芯片外,其余的工业级芯片大多都是28nm以上技术。
昨天有消息称,ASML旗下所有的DUV光刻机,出口都要被经过认可才可以。对于这样的说法,也是引起了热议,不过ASML给出了回应。光刻机大厂ASML高管对外表示,半导体业只有通力合作,建立完全自主的产业链,即使并非不可能也会极其困难。
今年3月8日,荷兰方面,计划对半导体技术出口实施新的管制,这些管制措施将在今天夏天之前开始实施。3月9日上午,荷兰光刻机巨头阿斯麦发布声明表示,ASML预计必须申请许可证方可出口DUV设备。至于所谓浸没式光刻机,属于193nm光刻机,可以被用于16nm至7nm先进制程芯片的制造,但是目前也有被业界广泛应用在45nm及以下的成熟制程当中。
ASML上周已经声明,高端DUV光刻机可以出口这也会让他们加快处理相应的订单。所谓浸没式光刻机,属于193nm光刻机,可以被用于16nm至7nm先进制程芯片的制造,但是目前也有被业界广泛应用在45nm及以下的成熟制程当中。对于今年的表现,ASML表示,将会加快对一些订单的处理,特别是高端DUV光刻机系列,以此来保证公司业绩强劲增长。
作为芯片生产过程中最关键装备的光刻机,有着极高的技术壁垒,有半导体工业皇冠上的明珠”之称,代表着人类文明的智慧结晶。在在芯片这样一个争分夺秒的行业里,时间就是金钱。据ASML官方介绍,ASML也一直在追求光刻机极致的速度,目前最先进的DUV光刻机,每小时可以完成300片晶圆的光刻生产。这是一个什么概念呢?我们来换算一下,完成一整片晶圆只需要12秒,这还得扣除掉晶圆交换和定位的时间,实际光刻时间要更短。而一片晶圆的