在半导体制造领域，超纯水是贯穿晶圆加工全流程的核心生产要素。从晶圆清洗、光刻到蚀刻，每一道工序都对水质提出近乎苛刻的要求。一旦水中杂质超标，轻则导致芯片良率下降，重则引发整条生产线停摆。在这一背景下，高新科技作为一家聚焦于芯片制造等电子核心产业的超纯水系统供应商，构建起覆盖超纯水制备、储运、收集、处理、回用各个环节的全链条技术体系，为半导体产业提供稳定可靠的用水保障。
超纯水制备:技术精进驱动纯度突破
超纯水制备系统工艺非常复杂，对设备精度与工艺控制提出很高要求。超纯水的生产要经过多道工艺流程，预处理、初级处理与抛光等多个步骤，这些步骤中，还涉及离子交换、UV照射、反渗透、混床离子交换、抛光膜脱气等多种高精尖技术，共同确保电阻率达到≥18.24MΩ*cm(在25℃时)的超纯标准。
高频科技专注超纯水领域，依托佼佼者的技术团队，经过持续研发投入与工艺探索，其超纯水系统制备的超纯水纯度可达ppt级别，离子含量仅万亿分之一，打造出比肩国际标准的超纯水。高频科技是国内极少数能够在芯片领域提供超纯水系统的企业，同时是国内头家具备 12 英寸14nm芯片产线超纯水制备能力的系统供应商。
超纯水配送:闭环水循环确保水质稳定
在半导体制造中，超纯水从制备到机台端的“最后一公里”输送，是决定水质稳定性的关键环节。在这一过程中，不管是管道材质析出、微生物滋生还是气体溶入，都可能导致水质污染，影响半导体生产。
高频科技超纯水配送系统采用环路连接设计消除死水区，实现 24 小时闭环循环。系统通过增压泵变频调节与回水管道比例阀开度控制，动态匹配用水量变化，维持管内压力恒定;供水流量按实际需求的120%-150%设计冗余，保障用水高峰期压力稳定及水流速，避免微生物滋生。同时，该系统的管道拥有很高的稳定性，几乎没有任何有机物、离子等杂质的析出，确保超纯水不被污染的供应至机台端。
废水处理与回用:经济与生态效益双赢
半导体制造产生的废水成分复杂，包含氢氟酸腐蚀性物质、光刻胶溶剂类有机物及铜/铝等金属离子污染物，而传统单一处理工艺存在成本高、回用水质不稳定等技术瓶颈。
针对行业痛点，高频科技研发打造出电子级废水处理技术，采用针对性的工艺有效、经济地完成处理。通过多级化学混凝沉淀、氨氮吹脱、生物处理等工艺的结合，该技术能够有效处理污染物繁多、性质复杂的芯片废水，实现深度去除污染物。同时，高频科技依托出众的技术和设计能力，能够对制程机台产生的 30 多道废水进行合理的分流和回用。项目水平衡可实现整厂用水的制备回收率高达90%，帮助企业实现提高水资源利用率，达成降本增效目的，实现经济效益与生态效益双赢。
当前，我国半导体产业正向更高端、更自主方向加速迈进，作为半导体产业链的关键支撑环节，高频科技通过构建超纯水全生命周期技术体系，深度参与着产业升级进程。展望未来，高频科技将继续深耕超纯水工艺技术，准确对接产业升级对超纯水品质的新需求，并以有效资源循环技术助力半导体企业实现降本增效与可持续发展。
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