台积电宣布推出6nm制程技术 预计2020年第一季度试产

2019-04-17 10:28 稿源:TechWeb  0条评论

台积电

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【TechWeb】 4 月 17 日消息,据国外媒体报道,台积电宣布,正式推出6nm制程技术。

新的6nm制程采用了EUV光刻技术,据称与第一代7nm制程相比,晶体管密度增加了18%,而设计规则与第一代7nm制程完全兼容,便于升级迁移和降低成本。

台积电的6nm制程预计将于 2020 年第一季度试产,适用于中高端移动芯片、消费应用、人工智能、网络、5G、高性能计算。

在过去几年里,英特尔在新制程方面进展缓慢,而其10nm制程在大规模生产方面也进展缓慢,主要原因是该公司对技术指标要求高,难以投入生产。

另一方面,台积电和三星取得了很大进展。除了技术上的突破,他们采取了更加灵活的策略,降低了新技术的难度,每次稍有改进就会做出一个新的版本。

例如,台积电的16nm制程是一个重要节点,而12nm则是在此基础上进行了升级和优化。三星则更加复杂,除了14nm、10nm、7nm、5nm的升级版,还有一系列过渡版,如11nm、8nm、6nm、4nm。

近日,台积电宣布,其5nm EUV制程已开始试制。与7nm相比,该公司的5nm EUV制程可使性能提高15%。与此同时,三星的5nm EUV制程可使功耗降低20%,性能提高10%。(小狐狸)

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