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极紫外光

极紫外光

台积电宣告3纳米制程预计明年上半年试产、2022年下半年量产后，也加速2纳米研发脚步，近期增购二台极紫外光（EUV）机台，以投入2纳米研发。台积电台媒称，这使得台积电今年资本支出几乎不会向下修正，预计仍会上看160亿美元。台积电是目前最积极导入极紫外光微影设备提供代工量产服务的晶圆厂，也因台积电在鳍式场效电晶体（FinFET）技术工艺精进，台积电在5纳米全数导入极紫外光微影设备...

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网络媒体对“极紫外光刻”描述

三星领先的下一代制造工艺的关键推动因素

使用极紫外（EUV）波长的下一代光刻技术

传统光刻技术的拓展

备受众多企业关注的光刻技术之一

应用于现代集成电路制造的光刻技术

投影光刻技术

最具潜力的下一代光刻技术

目前能力最强且最成熟的技术

下一代光刻技术

搜索引擎对“极紫外光刻”的分析

  • 波长：
    10-14纳米
  • 分辨率：
    30nm以下
  • 英语：
    Extreme ultra-violet
  • 来自于：
    ASML

网友给“极紫外光刻”贴的标签

  • EUV
  • EUV光刻
  • EUVL
  • Extreme Ultraviolet Lithography
  • Extreme Ultraviolet
  • 光刻技术
  • 技术
  • 公司
  • 工艺
  • 生产工具
  • 生产工艺
  • 光刻胶
  • 十大技术

网络媒体对“极紫外光”描述

光学家高度重视的特种光源

半导体制程推向3nm的重大利器

整个光谱当中非常有用的一个波段

晶圆制造迈入更先进的利器

曝光显影设备

近年全球半导体业最重要的技术变革

研究化学反应动力学最好的手段之一

管制项目

搜索引擎对“极紫外光”的分析

  • 波长：
    13.5nm
  • 也称为：
    真空紫外光
  • 关键材料：
    日制光刻胶
  • 独家生产者：
    ASML

网友给“极紫外光”贴的标签

  • EUV
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  • 光源
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