近日，英特尔与日本的先进工业科学技术研究所（AIST）达成合作协议，计划在日本建立一个芯片制造研发中心。这一新设施将是日本首个配备极紫外光刻(EUV)设备的芯片制造中心，旨在帮助提升日本在全球半导体市场的竞争力。
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这座研发中心将由 AIST 运营，AIST 是日本经济产业省的一部分，而英特尔则将提供在 EUV 技术方面的专业知识。这个新设施将为芯片制造商和材料公司提供使用最新工艺技术的机会，帮助他们在全球市场上更具竞争力。
EUV 设备的成本非常高昂，每台设备的价格约为2亿美元。目前，日本的相关机构大多通过位于比利时的 Imec 等海外组织获取 EUV 技术。而在不久的将来，日本的半导体公司 Rapidus 也将于12月安装 Imec 的 EUV 技术。
建设这座新设施预计需要三到五年的时间，由于 EUV 设备的高成本，整个项目可能会耗资数亿美元。这一举措不仅是日本在半导体领域的重要发展，也是全球芯片制造技术合作的一个新起点。
随着全球对芯片需求的不断增长，各国都在积极布局半导体产业。英特尔与 AIST 的合作无疑将推动日本芯片产业的进一步发展，让更多的日本芯片设计师能与顶尖技术接轨，提升他们的国际竞争力。
划重点:
🌟 英特尔与日本 AIST 合作，计划在日本建立芯片制造研发中心。
💰 新中心将引入价值2亿美元的极紫外光刻（EUV）设备，助力芯片制造。
⏳ 该设施预计在三到五年内建成，总投资可能达数亿美元。
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