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光刻胶

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南大广电在互动平台表示,该公司自主研发的高端ArF光刻胶已经通过了客户认证,并少量销售。南大光电表示,公司已有两款ArF光刻胶产品分别在下游客户存储芯片50nm和逻辑芯片55nm技术节点上通过认证,并实现少量销售。2022年,南大光电公司实现营业收入158,123.07万元,同比增长60.62%;归属于上市公司股东的净利润18,673.26万元,同比增37.07%;归属于上市公司股东的扣除非经常性损益后的净利润12,562.52万元,同比增长78.39%。...

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  • 自主研发 南大光电国产高端光刻胶通过认证 已经用于50nm工艺

    南大广电在互动平台表示,该公司自主研发的高端ArF光刻胶已经通过了客户认证,并少量销售。南大光电表示,公司已有两款ArF光刻胶产品分别在下游客户存储芯片50nm和逻辑芯片55nm技术节点上通过认证,并实现少量销售。2022年,南大光电公司实现营业收入158,123.07万元,同比增长60.62%;归属于上市公司股东的净利润18,673.26万元,同比增37.07%;归属于上市公司股东的扣除非经常性损益后的净利润12,562.52万元,同比增长78.39%。

  • 韩国光刻胶“去日化”失败 对日本依赖依然超过80%

    2019年韩国与日本之间也爆发过一次争端,日本方面宣布对韩国禁运,包括光刻胶在内的三种重要化学品要出口审查。韩国随即启动国产化项目,然而2年后依然不能摆脱对日本的依赖。日本公司在全球半导体材料行业有重要地位,对韩国禁运的主要是光刻胶、氟化聚酰亚胺和氟化氢,都是半导体芯片、面板生产中的高精尖产品,韩国对日本的依赖达到了80-90%,EUV光刻胶更是被日本厂商占了90%的市场。韩国在被制裁之后就开始降低对日本的依赖,?

  • 传三星从比利时获得EUV光刻胶 半导体制造加速摆脱日本

    日本对韩国发起的贸易制裁已经过去一个月了,分别是7月4日、8月7日推出了两波禁令,严控重要材料对韩国出口,其中第一波制裁中的光刻胶、氟化聚酰亚胺和氟化氢最为关键,对半导体、面板生产极为重要。

  • 台积电两年将接收至少60台EUV光刻机:投入超过123亿美元

    台积电正全力以赴,加速安装对2nm工艺量产至关重要的EUV光刻机。为了满足这一高端生产需求,台积电计划在今明两年接收超过60台EUV光刻机,预计投资总额将超过123亿美元。业界普遍期待台积电能在今年内接收到最新的High-NAEUV光刻机,这将为其在高端芯片制造领域的竞争力再添助力。

  • 光刻机巨头阿斯麦ASML新CEO上任:中国业务成首要工作

    荷兰光刻机巨头阿斯麦ASML迎来了新CEO,法国人克里斯托夫富凯。法国媒体在报道这一消息时直言,富凯上任后将面临不少棘手的待办事项,但如何处理公司在华业务则是首要工作”。”同时他还认为,从贸易的角度来看,不同地区之间脱钩是非常困难的,特别是这个行业需要高度协作。

  • 中国台湾花莲县7.3级地震 台积电:EUV光刻机等设备无受损

    4月3日7时58分,中国台湾花莲县海域发生7.3级地震,后续记录到上百起余震。4月3日晚,台积电对中国台湾发生的地震所造成影响做出最新评估。有网友表示:越先进的工艺,受影响越大”估计损失可能要好几亿美元了,机台上的晶圆都废了”。

  • 3 亿美元能造1.8nm!Intel收到全球第一台高NA EUV极紫外光刻机

    Intel官方宣布,位于俄勒冈州的晶圆厂已经收到ASML发货的全球第一台高NAEUV极紫外光刻机,型号为TwinscanEXE:5000”,它将帮助Intel继续推进摩尔定律。Intel早在2018年就向ASML订购了这种新一代光刻机,将用于计划今年量产的Intel18A制造工艺,也就是1.8nm级别。新光刻机的价格估计至少3亿美元,甚至可能达到或超过4亿美元,也就是逼近人民币30亿元现有低NAEUV光刻机需要2亿美元左右。

  • 7nm、3nm光刻机没有无妨!ASML力挺中国:能把成熟制程做到全球领先

    全球光刻机巨头ASML全球副总裁、中国区总裁沈波接受媒体采访时表示,先进制程的光刻机固然重要,但成熟制程同样不容忽视。ASML是全球光刻机巨头,尤其先进制程光刻机只有ASML可以提供,但ASML的先进制程光刻机入华受到限制。公司看到其他客户的需求时间节点发生了变化,这使ASML能够向中国客户交付更多设备。

  • 谁说不卖机器给中国!ASML:中国已有近1400台ASML光刻机

    快科技11月3日消息,毫无疑问,中国厂商正在疯狂抢购ASML的光刻机,但是你知道有多少了吗?在第六届中国国际进口博览会上,ASML全球副总裁、中国区总裁沈波接受媒体采访时透露,到2023年底,ASML在中国的光刻机加上量测的机台装机量接近1400台。沈波表示,去年ASML全球净销售额达212亿欧元,预计2023财年,公司全球销售额增长30%,将达270余亿欧元。据ASML最新季报,明后年全球半导体行业将企稳。预计到2025年,现有晶圆厂产能将会增加并有新的晶圆厂投入使用,半导体设备行业将会迎来比较大的增长,迎来需求的高潮”。沈波透露,我们现在

  • 台积电之后 韩国芯片工厂也关停光刻机了:仅一半产线运转

    由于半导体市场需求不足,台积电最近被传出将EUV光刻机关停一部分,类似的还有韩国半导体工厂,光刻机等设备也要热停机,开工率只有一半左右。韩国芯片公司DBHitek目前的产能利用率只有73.83%,较去年同期的的97.68%大降23%以上。除了热停机降低成本之外,韩国芯片工厂也跟台积电、联电、世界先进一样降价拉拢客户,代工厂已将8英寸晶圆服务降低了约10%,部分代工服务的价格降幅高达20%。

  • 摩尔定律物理极限 台积电要研发1nm工艺:一台光刻机就要30亿

    随着半导体工艺深入到5nm以下,制造难度与成本与日俱增,摩尔定律的物理极限大约在1nm左右,再往下就要面临严重的量子隧穿难题,导致晶体管失效。各大厂商的先进工艺在实际尺寸上都是有水分的,所以纸面意义上的1nm工艺还是会有的,台积电去年就组建团队研发1.4nm工艺,日前CEO刘德音又表示已经在探索比1.4nm更先进的工艺了。但是下一代EUV光刻机的代价也很高,售价会从目前1.5亿美元提升到4亿美元以上,最终价格可能还要涨,30亿一台设备很考验厂商的成本控制。

  • EUV光刻前的最后疯狂:DDR5内存狂飙 单条1TB不是梦

    随着制程工艺的进步,DRAM内存芯片也面临着CPU/GPU一样的微缩难题,解决办法就是上EUV光刻机,但是设备实在太贵,现在还要榨干DUV工艺最后一滴,DDR5内存有望实现单条1TB。作为第一家推出24Gb核心DDR5的内存公司,美光日前又创造了一个新纪录推出了32Gb核心的DDR5内存颗粒,使用的是比前者1工艺更先进的1工艺,这也是美光最后的非EUV工艺了,再往后不想上EUV也没招了。显存GDDR路线上,2025年会推出GDDR7,频率32Gbps,核心容量16-24Gb,带宽128GB/s以上。

  • 荷兰新规所有DUV光刻机都禁止出口?ASML正式回应

    昨天有消息称,ASML旗下所有的DUV光刻机,出口都要被经过认可才可以。对于这样的说法,也是引起了热议,不过ASML给出了回应。光刻机大厂ASML高管对外表示,半导体业只有通力合作,建立完全自主的产业链,即使并非不可能也会极其困难。

  • 售价直逼30亿 ASML下代EUV光刻机年底问世:1nm工艺必备

    在半导体工艺进入7nm节点之后,EUV光刻机是少不了的关键设备,目前只有ASML能制造,单台售价10亿人民币,今年底还会迎来下一代EUV光刻机,价格也会大涨。光刻机的分辨率越高,越有利于制造更小的晶体管分辨率也跟光刻机物镜的NA数值孔径有直接关系,目前的EUV光刻机是NA=0.33技术的,下代EUV光刻机则是提升到NA=0.55。这还不排除未来正式商用的时候价格进一步上涨,毕竟还要好几年才能上市。

  • ASML吓坏?俄罗斯放狠话加快自研光刻机 能产7nm芯片:合作伙伴敲定

    据俄罗斯媒体报道称,为了推进自研光刻机进度,其已经敲定了相关的合作伙伴。俄罗斯方面将为两大白俄罗斯微电子领域项目提供约100亿卢布信贷支持,受资助企业包括集成电路成套工艺领域的Integral和精密光刻设备领域的Planar。

  • 台积电预计 6 月将英伟达 AI 加速计算光刻技术导入 2 纳米试产

    在日前举行的英伟达+GPU+技术大会上,英伟达公布了其在计算光刻技术方面的突破。新的+Nvidia+cuLitho+软件库将加速计算引入了计算光刻领域,使半导体公司能够在这一领域取得突破。从长远来看,cuLitho+将实现更好的设计规则、更高的密度、更高的产量和+AI+驱动的光刻技术。

  • ASML部分先进DUV光刻机出口受限:对准精度不高于2.5nm

    今年3月8日,荷兰方面,计划对半导体技术出口实施新的管制,这些管制措施将在今天夏天之前开始实施。3月9日上午,荷兰光刻机巨头阿斯麦发布声明表示,ASML预计必须申请许可证方可出口DUV设备。至于所谓浸没式光刻机,属于193nm光刻机,可以被用于16nm至7nm先进制程芯片的制造,但是目前也有被业界广泛应用在45nm及以下的成熟制程当中。

  • 支持7nm!高端DUV光刻机可出口后 ASML加快订单处理

    ASML上周已经声明,高端DUV光刻机可以出口这也会让他们加快处理相应的订单。所谓浸没式光刻机,属于193nm光刻机,可以被用于16nm至7nm先进制程芯片的制造,但是目前也有被业界广泛应用在45nm及以下的成熟制程当中。对于今年的表现,ASML表示,将会加快对一些订单的处理,特别是高端DUV光刻机系列,以此来保证公司业绩强劲增长。

  • 努比亚Z50 Ultra星空典藏版公布:纳米级光刻纹理AG玻璃

    努比亚手机今日官宣,将推出努比亚Z50Ultra星空典藏版。新机采用全球唯一环保玻璃立体蚀刻工艺,配合纳米级光刻纹理AG玻璃材质,带来科技与艺术的碰撞。新机将在3月7日14:00正式发布,将是努比亚史上最强旗舰。

  • 周鸿祎:打造中国版ChatGPT难度比研发光刻机低很多

    生成式AI对话机器人ChatGPT爆火后,360董事长周鸿祎饶有兴致地分享了不少观点。2月28日,周鸿祎在个人微博更新视频,他提到一个观点,打造中国版ChatGPT难度比研发光刻机低太多。他希望大学、国家实验室、科研机构、科研体系能够和互联网公司、产业公司结合起来,创造一个比较好的产学研合作模式。

  • 摩尔定律不死 Intel将冲击1nm工艺:用上下一代EUV光刻机

    作为摩尔定律的提出者,Intel也是最坚定的摩尔定律捍卫者,多次表示半导体工艺还会继续提升下去,在现有4年掌握5代CPU工艺之后,Intel还启动了未来两代的CPU工艺研发,目标逼近1nm了。Intel的5代CPU工艺分别是Intel7、Intel4、Intel3、Intel20A及Intel18A,其中Intel7在2021年的12代酷睿上首发了,Intel4会在下半年的14代酷睿上首发会首次用上EUV光刻工艺。不过下代EUV光刻机的成本也会大涨,当前售价在1.5亿美元左右,下代价格轻松超过4亿美元。

  • 一个时代的终结!松下宣布将停止生产蓝光刻录碟

    1月28日,日本电子巨头松下公司表示,将于 2 月份停止生产用于刻录的蓝光光盘。届时,所有公开销售的此类产品都将停产,并且不会发布任何后续产品。这也意味着一个时代的终结,现在大家已经不再需要使用刻录碟来存储资料了。在当年一块60GB硬盘卖800元的年代,一张4.7GB的DVD刻录碟却只卖5块钱。同样的容量只需要1/10的价格,对于消费者来说,DVD刻录碟无疑是更具性价比的存储设备。不过时代在变,随着大容量机械硬盘逐渐白菜价,刻录碟的性价比优势逐渐消失。东芝、松下等厂商在2008 年就停止了 HD DVD 播放器和录像机的开发,同时停止生

  • Intel 4/3/20A/18A四种新工艺都来了!EUV光刻机里程碑

    Intel在先进制造工艺上投入颇深,按照官方说法进展也颇为顺利。Intel7已经大量用于消费级的12/13代酷睿、企业级的4代可扩展至强。Intel20A、Intel18A均已经完成了测试芯片的流片,它们将引入RibbonFET环绕栅极晶体管、PowerVia后端供电两大关键新技术。

  • 光刻机关键原料氖气价格暴涨20倍 中企出手后:降下来了

    芯片制造离不开光刻机,数据显示,全球晶圆制造材料中的第一大耗材是硅片,第二大就是电子特气。以光刻为例,需要的电子特气就包括氖气、氩气、氪气、氙气等几种稀有气体。氖气是钢铁行业的副产品,科创板上市华特气体的光刻气产品于2017年通过阿斯麦的产品认证,国内另一家企业凯美特气也在推进阿斯麦的认证。

  • 2022 年度十大科技热词出炉:元宇宙、光刻机在列

    百度沸点联合凤凰网科技发布了“2022年度科技热词”,分别是元宇宙、Web3.0、数字藏品、量子纠缠、数字人、AIGC、数字经济、光刻机、计算生物学、碳中和。凤凰网科技重点评论了“元宇宙”概念:充满无限可能的“元宇宙”跃居年度科技热词榜首,作为一种新兴业态,元宇宙技术不仅将成为下一代生产力工具,也将推动数字化时代逐步进化到“元宇宙时代”。10、碳中和让碳正负抵消,达到相对“零排放”。

  • 台积电3nm来战 Intel 4工艺来了:首台EUV光刻机已开机

    Intel目前的12代、13代酷睿使用的还是Intel7工艺,明年的14代酷睿MeteorLake将首发Intel4工艺,这也是Intel首次使用EUV光刻的工艺,SRAM晶体管规模几乎接近台积电3nm工艺。日前Intel宣布了一个重要里程碑,首台EUV光刻机已经开机并产生13.5nm波长的光。坏消息是14代酷睿可能只有移动版,桌面版处理器在2023年会是RaptorLake-SRefresh,也就是13代酷睿马甲。

  • 台积电的“金字招牌”5nm/7nm不灵了!EUV光刻被迫停机

    下半年以来的半导体行业调整,似乎并没有给台积电造成比较大的影响,其1~11月的累计收入同比增加了44.6%。DT分析师预计,因为明年上半年需求订单萎缩,一季度台积电的收入将遭遇10~15%的环比下滑。台积电三季度财报显示,5nm连同7nm是公司前两大销售业务来源,合计贡献了超过50%的营收。

  • 华为新专利公布:入局光刻机

    国家知识产权局公布了一项新的华为专利,专利名为“反射镜、光刻装置及其控制方法”,编号是CN115343915A,此项专利与EUV光刻机有关,也引起了众多关注。此前华为自研芯片获得成功,不过高端芯片的量产在美国对华技术封锁的压力下停滞不前,麒麟9000也成为经典不再量产,华为入局光刻机可以说是一个好消息,猜测后续华为会推进处理器的研发和设计。麒麟9000芯片是华为于2020年10月22日20:00发布的基于5nm工艺制程的手机Soc,基于5nm工艺制程打造,集成多达153亿个晶体管,包括一个3.13GHzA77大核心、三个2.54GHzA77中核心、四个2.04GHzA55小核心。

  • ASML做光刻机无敌手 业内仅排第二:真正的半导体设备老大哥在美国

    很多人都知道了ASML、佳能等公司的光刻机。半导体产品显然不是靠一台光刻机就能加工完成,实际上要部署的设备非常多元复杂。应用材料是全球最大的半导体设备商,半导体业务几乎可贯穿整个半导体工艺制程,包含薄膜沉积、离子注入、刻蚀、快速热处理、化学机械平整、测量检测等设备。

  • CINNO发布Q3全球半导体设备制造商营收排行:光刻机巨头阿斯麦(ASML)排名第二位

    CINNO Research日前发布了2022年第三季度全球上市公司半导体设备制造商业务营收排名,其中排名前十位企业营收合计达275亿美元,约合人民币1983亿元,同比增长8.6%,环比增长14.9%。排名第一的是美国应用材料公司,2022年第三季度营收近64亿美元,约合人民币461.亿元;排名第二位的是荷兰光刻机巨头阿斯麦公司;排名第三位的是美国泛林公司;排名第四位的是日本东电电子公司。CINNO Research表示,这前四大公司的半导体业务2022年前三季度的营收合计均已超过125亿美元约合人民币901亿元,并且2022年第三季度单季营收均为今年最高季度营收。