纳米光学膜

近日，《中华人民共和国国民经济和社会发展第十四个五年规划和 2035 年远景目标纲要》(以下简称“《纲要》”)全文正式发布。其中，集成电路攻关方面，《纲要》指出，"集成电路设计工具、重点装备和高纯靶材等关键材料研发、集成电路先进工艺和绝缘栅双极型晶体管(IGBT)、微机电系统(MEMS)等特色工艺突破，先进存储技术升级，碳化硅、氮化镓等宽禁带半导体发展。"节选《纲要》科技前沿领域攻关目前从我国市场的表现来看，芯片市场无...

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