等离子体刻蚀机

3月29日，清华大学设备采购信息平台发布了一则等离子体刻蚀机采购项目的公开招标公告。本次招标将采购一套等离子体刻蚀机，预算165万元人民币。据介绍，该等离子体刻蚀机将用于刻蚀薄膜铌酸锂晶圆，从而加工基于薄膜铌酸锂晶圆的电光器件。技术指标要求：－ 真空系统：分子泵抽速1300L/s、干泵抽速100m3/h；－ 下电极：满足8英寸(200mm)样品刻蚀需要，更小样品或碎片可贴片装载；－ 软件和控制系统：要求自主版权的软件、Windows操作系统软件；－ 机台工艺能力：主要用于刻蚀薄膜铌酸锂材料、介质材料等。等离子刻蚀机，又叫等离子蚀刻机?...

特别声明：本页面标签名称与页面内容，系网站系统为资讯内容分类自动生成，仅提供资讯内容索引使用，旨在方便用户索引相关资讯报道。如标签名称涉及商标信息，请访问商标品牌官方了解详情，请勿以本站标签页面内容为参考信息，本站与可能出现的商标名称信息不存在任何关联关系，对本页面内容所引致的错误、不确或遗漏，概不负任何法律责任。站长之家将尽力确保所提供信息的准确性及可靠性，但不保证有关资料的准确性及可靠性，读者在使用前请进一步核实，并对任何自主决定的行为负责。任何单位或个人认为本页面内容可能涉嫌侵犯其知识产权或存在不实内容时，可及时向站长之家提出书面权利通知或不实情况说明，并提权属证明及详细侵权或不实情况证明（点击查看反馈联系地址）。本网站在收到上述反馈文件后，将会依法依规核实信息，第一时间沟通删除相关内容或断开相关链接。