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超分辨光刻通过验收 国产22nm芯片将至

2018-11-30 07:19 · 稿源: 手机中国

《超分辨光刻通过验收 国产22nm芯片将至》文章已经归档,站长之家不再展示相关内容,下文是站长之家的自动化写作机器人,通过算法提取的文章重点内容。这只AI还很年轻,欢迎联系我们帮它成长:

昨晚有国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备项目”已经通过验收,未来国产光刻机也将占领一席之地...

这款光刻机的问世,也为超材料/超表面、第三代光学器件、广义芯片等变革性领域的跨越式发展提供了制造工具...

在此之前,2002年成立的上海微电子已经率先研发出了90nm制程的光刻机,现在中国科学院光电技术研究所研发的22nm光刻机已经通过验收,可以说实现了跨越级的进步...

......

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